टीपीयू फिल्म प्रोसेसिंगमध्ये Si-TPV 3100-55A

Si-TPV 3100-55A चा वापर यामध्ये केला जाऊ शकतोटीपीयू ब्लोन फिल्म सिस्टम्ससाधारणपणे जाडी असलेल्या फिल्म्ससह३ मिल (७६.२ μm)जिथे त्याचा उपयोग अंतिम फिल्मचे मऊ स्पर्शाचे गुणधर्म, लवचिकपणाची जाणीव आणि एकूण पृष्ठभागाचा अनुभव सुधारण्यासाठी केला जातो.

या तुलनेने पातळ फिल्मच्या श्रेणीमध्ये, प्रक्रिया प्रणाली फेज डिस्पर्शन वर्तनाबद्दल अधिक संवेदनशील बनते. यामुळे कधीकधी परिणाम होऊ शकतोहलक्या पृष्ठभागावर "सूक्ष्म ठिपके" किंवा कणांसारखे दिसणेजे उच्च ड्रॉ-डाउन परिस्थितीत फिल्म निर्मिती दरम्यान सिलिकॉन-समृद्ध डोमेनच्या स्थानिक एकत्रीकरणाशी संबंधित आहे.

ही सामग्रीचीच मर्यादा असण्याऐवजी, हे वर्तन मुख्यत्वे याच्याशी संबंधित आहेमिश्रण आणि गोळीकरण टप्प्यादरम्यान विखुरण्याची एकसमानता आणि गाळण्याची कार्यक्षमता.

पृष्ठभागाची सुसंगतता सुधारण्यासाठी आणि अधिक एकसमान फिल्म स्वरूप प्राप्त करण्यासाठी, एक सादर करण्याची शिफारस केली जातेवितळ मिश्रण आणि गोळ्या बनवण्याच्या प्रक्रियेदरम्यान २५०-३०० मेश गाळणी चाळणीही पायरी एक्सट्रूजनपूर्वी संभाव्य मोठे गुच्छ काढून टाकण्यास मदत करते, ज्यामुळे फिल्म लाइनमध्ये प्रवेश करणारी अधिक स्थिर आणि परिष्कृत डिस्पर्शन प्रणाली सुनिश्चित होते.

या समायोजनामुळे, उत्पादक खालील बाबींमध्ये अधिक संतुलित परिणाम साधू शकतात:

• गुळगुळीत आणि एकसमान फिल्म पृष्ठभागाचे स्वरूप
• स्थिर इलॅस्टोमेरिक आणि सॉफ्ट-टच कामगिरी
• पातळ गेजच्या TPU फिल्म्समध्ये सुधारित प्रक्रिया विश्वसनीयता

एकंदरीत, ही ऑप्टिमायझेशन पद्धत Si-TPV 3100-55A ला पातळ TPU फिल्म ॲप्लिकेशन्समध्ये अधिक प्रभावीपणे कार्य करण्यास मदत करते, दोन्हीला समर्थन देत.स्पर्शानुभव वृद्धी आणि दृश्य पृष्ठभागाच्या गुणवत्तेचे नियंत्रणआव्हानात्मक ब्लोन फिल्म उत्पादन वातावरणात.